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。 我们坚持高质量服务，立志高技术创新，追求高速度发展。一直秉承“为客户服务并且创造价值”的宗旨，坚持“创新务实，客户至上”的工作准则，为芯片行业提供优异产品和系统解决方案。目前，迪史洁干冰雪花清洗设备主营的二氧化碳雪花设备在全国备受客户的热捧。本公司秉着诚信经营的理念对产品进行生产销售，强化过程管理，建设品质良好工程。

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我们的使命:将创新的CO2雪花技术应用于复杂的精密清洗、提取和冷却应用，以环保的方式提高生产率、质量和安全性。

迪史洁干冰雪花清洗是一种的颗粒去除技术，广泛应用于光学、硬盘、表面处理、电子等行业。这种有效清洁技术的关键特征包括能够去除大量颗粒物质而不凝结、不磨损、不残留、不接触。

少量液相迪史洁干冰雪花清洗被注射并与加热和压力调节的惰性推进气体混合，以形成具有可控喷雾组成和清洁能量的均匀清洁喷雾混合物。根据混合喷嘴组件的几何形状、喷雾混合比、推进剂压力和温度，输送到基底的清洁能量是完全可调的。固体迪史洁干冰雪花清洗颗粒以高速撞击基底，在表面污染物上产生高剪切应力。这一作用产生了化学活性固相，提供了颗粒物质、无机残留物和有机薄膜污染物的去除。在与污染物和表面接触后，固体一氧化碳2颗粒升华，没有留下清洁剂的痕迹。残留物通过一个集成的通风系统从清洁区清除。

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迪史洁干冰雪技术 净化系统的心脏是由超音速双环喷嘴制造的专利净化头。液态二氧化碳被引导通过喷嘴，并在出口处扩展成雪和气体的混合物。无油压缩空气是酷到核心喷即喷即喷，加速不燃CO2雪晶体是超音速的。这就是雪花清理过程如此有效的原因:当“轻松聚焦射流冲击表面以进行清理”时，雪花水晶会流动并升华。升华脉冲的原因在表面上的部分接触礼物，干燥的粒子，芯片清洗，灰尘清洁或聚粘清洁，以要求脱粘和携带远离。在它的液态状态下，CO2雪花清洗二氧化碳作为溶剂，可去除铅的有机污染物CO2雪花清洗，例如石油、油脂、蜡、加工介质、防腐涂层或石墨CO2雪花清洗。

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迪史洁干冰雪技术无论是用于塑料喷漆、精密机电产品制造、电子或半导体或光学行业，为了在涂层、喷漆、连接或其他过程中获得高质量的结果，表面都需要没有颗粒、油和油脂。

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迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

随着技术的进步，精密仪器的性能要求和复杂性也在增加。DSJet一直走在这条曲线的前列，不断提供进的干冰或雪清洁产品，这些产品对环境友好，不使用去离子水、化学物质和废物。

干冰雪花清洗优点:清洁，干燥的过程，控制的污点清洁，可以改变清洁强度，环保。

干冰雪花清洗表面处理粘合剂粘合工艺的表面处理提供了涂层和油漆之间的牢固粘合。喷嘴喷洒雪来清洁表面，不会留下任何污染物，牢固的结合。

干冰雪花清洗优点:不需要后期溶剂清洗或擦拭。在大气压下进行表面功能化，周期短，并证明能有效提高粘合强度。

干冰雪花清洗自动清洗自动化清洗单元工艺目前正在以下行业中实施:硬盘驱动器(HDD)、液晶显示器(LCD)、通信、医疗、军事和航空航天。

干冰雪花清洗优点:全自动、在线、快速、免手动、占地面积小、可重复清洁、节省人力

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下表列出了干冰雪花精密清洗工艺的重要优势:

干冰雪花高粒子速度穿透“边界层”，将清洁传递到基底；

干冰雪花喷雾产生了一个相当大的紊流状态，增加了局部的剪切应力；

干冰雪花一氧化碳的低“硬度”2颗粒产生非研磨性的清洁过程，可用于各种各样的基底；

干冰雪花开发了小颗粒高能清洗以去除亚微米颗粒；

干冰雪花产生大颗粒高能喷雾以去除较大颗粒；

干冰雪花关键过程变量可以通过各种喷嘴、压力、温度和流速来输入；

干冰雪花冲击表面应力值范围从1兆帕到80兆帕可以很容易地控制清洗效果；可以有效地去除薄的有机表面层。这项技术很容易适用于手动污点清洁、自动在线或孤岛清洁系统以及工具内清洁应用。

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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公司针对不同行业和运用要求推出不同类型的产品，主要二氧化碳雪花设备为主，以芯片行业为主要销售对象。我司销售渠道广泛，产品采用;厂家等方式稳定销售于全国，业绩稳步增长。倡导科学发展观，节约成本、利润优化、好服务、与时俱进是我们工作的准则。

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