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迪史洁干冰雪喷射清洗在传统的光刻微芯片生产中也得到了证明。在芯片有限公司，它被用于生产各种应用的磁阻传感器。公司成立了公司2雪喷射技术在制造用于磁共振传感器的三维微芯片中作为传统湿化学清洗的有效且环保的替代物。这些通常需要用超纯介质进行昂贵的冲洗过程。二氧化碳干冰技术去除了金属化后在导电路径边缘形成的所谓栅栏。然后可以将下一个结构应用到硅晶片上。

CO2雪花清洗系统因为即使是小的流体介质残留物也会影响微电子元件的功能或保护涂层的粘附性，所以这些也需要可靠地去除。哥伦比亚2雪为清洁和提高保护涂层的附着力提供了一种经济、无残留的解决方案。同时，该工艺还能够选择性地处理特定部分，如粘合和接触区域。

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涂层和未涂层玻璃

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我们研究了这一类别中的几个项目，包括清洁涂层和未涂层玻璃、石英，并将溶剂清洁与雪地清洁进行了比较。总的来说，对于光学器件、基板和其他玻璃物体，只要适当注意工艺参数，清洁是有效的。镀膜光学器件带来的问题很小。如果一个薄膜被适当地沉积在玻璃基板上，它将停留在基板上

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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迪史洁干冰雪花清洗是一种的颗粒去除技术，广泛应用于光学、硬盘、表面处理、电子等行业。这种有效清洁技术的关键特征包括能够去除大量颗粒物质而不凝结、不磨损、不残留、不接触。

少量液相迪史洁干冰雪花清洗被注射并与加热和压力调节的惰性推进气体混合，以形成具有可控喷雾组成和清洁能量的均匀清洁喷雾混合物。根据混合喷嘴组件的几何形状、喷雾混合比、推进剂压力和温度，输送到基底的清洁能量是完全可调的。固体迪史洁干冰雪花清洗颗粒以高速撞击基底，在表面污染物上产生高剪切应力。这一作用产生了化学活性固相，提供了颗粒物质、无机残留物和有机薄膜污染物的去除。在与污染物和表面接触后，固体一氧化碳2颗粒升华，没有留下清洁剂的痕迹。残留物通过一个集成的通风系统从清洁区清除。

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