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迪史洁干冰雪喷射清洗在传统的光刻微芯片生产中也得到了证明。在芯片有限公司，它被用于生产各种应用的磁阻传感器。公司成立了公司2雪喷射技术在制造用于磁共振传感器的三维微芯片中作为传统湿化学清洗的有效且环保的替代物。这些通常需要用超纯介质进行昂贵的冲洗过程。二氧化碳干冰技术去除了金属化后在导电路径边缘形成的所谓栅栏。然后可以将下一个结构应用到硅晶片上。

CO2雪花清洗系统因为即使是小的流体介质残留物也会影响微电子元件的功能或保护涂层的粘附性，所以这些也需要可靠地去除。哥伦比亚2雪为清洁和提高保护涂层的附着力提供了一种经济、无残留的解决方案。同时，该工艺还能够选择性地处理特定部分，如粘合和接触区域。

迪史洁干冰雪喷射清洗在传统该工艺还为射频识别应用的微芯片封装提供了解决方案。组装前，半导体由夹具放在一个特殊的料盒中。在此过程中，机器人会产生足够的气流，这可能会导致将极轻的芯片从包装中取出。为了防止这种情况，芯片被从封装后部施加的真空压住。为此，钻一个小孔，并清除钻孔产生的残留物。哥伦比亚2雪喷射清洁擅长于这一特殊过程。

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CO2雪花清洗系统除雪模式？

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CO2雪花清洗系统有两个一氧化碳2除雪模式，我称之为高速和低速方法。在高速方法中，小的干冰晶体形成并以高速撞击表面。在这种模式下，粒子去除范围很大，从可见到3 - 5纳米。高速模式还能够去除碳氢化合物、有机物、硅残留物、指纹，甚至水和溶剂斑点。高速模式用于基片、光学器件和许多其他物品的清洗。专色尺寸范围从1/8到1/4英寸，或3到6毫米

CO2雪花清洗系统在低速模式下，初的高速气流进入较大直径的膨胀区，小的干冰气流以较低的速度变成大的雪花。这种模式常见于 望远镜清洗。光学器件也可以应用艺术保护。较大颗粒的去除是主要目标，碳氢化合物或有机物的去除是不可能的。离开膨胀区的液流尺寸为1英寸圆形(25毫米)或2英寸狭缝(50毫米)

CO2雪花清洗系统一般实验室、生产和洁净室清洁，CO2雪花清洗系统衬底制备制造许多金属和陶瓷零件和组件

CO2雪花清洗系统从微电子和混合电路中去除粒子，CO2雪花清洗系统艺术修复、火灾恢复、望远镜等等。

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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下表列出了干冰雪花精密清洗工艺的重要优势:

干冰雪花高粒子速度穿透“边界层”，将清洁传递到基底；

干冰雪花喷雾产生了一个相当大的紊流状态，增加了局部的剪切应力；

干冰雪花一氧化碳的低“硬度”2颗粒产生非研磨性的清洁过程，可用于各种各样的基底；

干冰雪花开发了小颗粒高能清洗以去除亚微米颗粒；

干冰雪花产生大颗粒高能喷雾以去除较大颗粒；

干冰雪花关键过程变量可以通过各种喷嘴、压力、温度和流速来输入；

干冰雪花冲击表面应力值范围从1兆帕到80兆帕可以很容易地控制清洗效果；可以有效地去除薄的有机表面层。这项技术很容易适用于手动污点清洁、自动在线或孤岛清洁系统以及工具内清洁应用。

更多CO2雪花技术咨询，产品和服务将陆续发布。

迪史洁雪花清洁系统是迪史洁干冰雪花清洗设备重要推广的产品，也是销售形势较好的产品。迪史洁干冰雪花清洗设备采用;厂家;实体店销售的方式进行市场开拓。“顾客至上，改革求实，以人为本，团结进取”是我司践行的公司文化。如您参与我司业务合作，可采用银行转账;货到付款的方式付款，我们还提供24小时在线咨询的售后服务。

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