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目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年Hoentg提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果。

干冰喷射清洗法的优点还在于作为工作介质的二氧化碳在被清洗表面上会全部挥发。无残留物质，不仅能提高表面清洁度，而且符合USDA、FDA、EPA的安全环保要求。处理过程产生的二氧化碳气体易于回收，可以避免对人体的侵害和环境污染。适应工业清洁生产和环保的要求，目前干冰颗粒喷射清洗技术在模具清洗和工业清洗等行业逐渐被广泛认可和应用。

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流程可靠、且快速

当这些动作在几分之一秒内发生时，可以非常快速地清洗和去毛刺衬底，同时仍然产生可再现的结果。在清洁过程中，二氧化碳完全转化为气体，基材立即干燥，因此无需进行常规湿化学工艺所需的高能耗干燥过程。CO2雪喷技术还消除了与非常窄的工艺窗口相关的风险，例如在传统工艺中出现的那些，例如电抛光:如果处理时间太短，则不能可靠地去除微小毛刺。如果插管放在浴缸里太久，顶端会变钝。该方法的其他优点包括不需要化学物质，不产生废水，也没有需要处理的溶剂。

易于自动化

迪史洁提供各种设备，用于CO2雪喷清洗。完整的系统和模块可以很容易地集成到全自动生产线上，或者作为独立的解决方案使用。根据手头的任务，为洁净室使用而制造的系统配有本地洁净室系统(MENV)和特别改装的专利抽吸设备。

利用CO2雪喷技术，套管不仅可以同时清洁和去毛刺。该工艺还消除了窄工艺窗口带来的风险，如电抛光中出现的风险。

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清洁——即使在脆弱的口腔中

CO2扫雪喷射系统的高清洁性能与相对较低的二氧化碳消耗相结合，这是由于总部位于埃斯林根的公司设计并获得专利的超音速双组分清洁头。液态二氧化碳在离开喷嘴时膨胀，形成雪和气体的混合物，形成核心射流。然后，压缩空气作为夹套射流被加入，以将微小的、非研磨性的雪晶体加速到超音速。同时，清洁头的紧凑设计了不可燃的CO2雪喷流也能够可靠地清洁非常脆弱的部件空腔和底切，例如在挡泥板、后面板和侧板以及扰流板中发现的那些。在此过程中，通过结合使用机械、化学和热特性，可以去除颗粒和薄膜污染物，而不会留下任何残留物。用于清洁系统的二氧化碳来源于制造肥料的过程，因此是环境中性的。

对于连续操作，CO2清洗系统设计用于清洗由各种不同塑料制成的各种形状和尺寸的部件。通过进行颗粒测量、光学比较和分析以检测表面残留物，以及通过进行技术测试以评估油漆附着力和光学外观，证明了这一点。

迪史洁干冰雪花清洗设备生产的雪花清洗机，选用精良的材质，产品质量优异，制作工艺精巧，主要用于产品清洗。我司产品在全国拥有很好的销量，有需要的客户请到我公司销售网点选购，我们将以;厂家的方式进行销售并以空运方式为您进行货物配送。诚信为本，合作共赢是本公司的文化理念，我司积极开展广泛合作。

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除雪系统依靠气体或液体二氧化碳的膨胀。输出流通常是高速的固体和气体混合物，并集中在表面进行清洁。清洁是通过干冰和表面污染物之间的动量传递和溶剂作用的结合来完成的。清洁机构在网站的其他地方讨论。哥伦比亚2除雪可以清除所有尺寸的颗粒，甚至亚微米和纳米尺寸的颗粒，以及碳氢化合物基沉积物和薄膜。除雪技术常见的商业方法包括具有高速输出的单膨胀喷嘴。喷嘴的目标是具有恒定的焓膨胀和高速气流。不对称文丘里喷嘴(超音速喷嘴)可以产生这些条件。其他喷嘴几何形状会产生高速雪流，但可能不太集中，可能需要氮气增压，或者会损害有机物去除能力。应用表面技术公司的二氧化碳除雪装置采用不对称文丘里喷嘴设计，产生高速雪流。通过这种选择，雪喷系统可以去除颗粒和有机残留物，并且可以由液体或气体CO2源形成。

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从金属、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物

硅、磷化铟和GaAs晶片上颗粒和污渍去除

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清洁光学器件，即镀膜透镜、激光、红外和紫外光学器件

表面分析(俄歇、XPS、SIMS)和原子力显微镜前的样品制备

清洁真空系统部件、波纹管、电子和离子光学器件

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一般实验室、生产和洁净室清洁

衬底制备制造许多金属和陶瓷零件和组件

从微电子和混合电路中去除粒子

艺术修复、火灾恢复、望远镜等等。

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