Picosun系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有的热壁、*独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有专技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜，并已在生产线上得到验证。   PICOSUN™P-300F系统代表了工业化ALD工艺。这个系统是为全自动的批量生产而设计，并与工业标准化的单片晶圆真空集群平台相结合。P-300F系统通过SEMIS2/S8认证，可以通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。   ThePICOSUN™P-300F是IC行业创新驱动行业的选ALD系统！   衬底尺寸和类型   •200mm晶圆50片/批次   •150mm晶圆50片/批次   •100mm晶圆50片/批次   •高深宽比基底（深宽比1:2500）   •基底材料：Si,玻璃，石英，SiC,GaN,GaAs,LiNbO3,LiTaO3,InP   工艺温度和产率   •50–300°C   •达到1000片/24h@15nmAl2O3薄膜   •批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环*   •Al2O3,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,TiO2,ZrO2,AlN,TiN以及各种金属   •同一批次薄膜不均匀性<1%1σ   (Al2O3,WIW,WTW,B2B,49pts,5mmEE)**   http://www.shleiwei.com/Products-37268364.html   https://www.chem17.com/st543966/product_37268364.html