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光学玻璃清洁

氢氧化钠10~30

碳酸钠20~50

羧甲基纤维素3~10

有机硅类消泡剂0~5

去离子水余量

脂肪醇聚氧乙烯醚50~

络合剂10~30

渗透剂30~80

去离子水余量

表面活性剂可以选用脂肪醇聚氧乙烯醚或者、

渗透剂：jfc、磺化琥珀酸酯的钠盐

络合剂：edta、edta钠盐、胺类

光学玻璃镀膜前后清洗

光学玻璃

光学玻璃清洗剂光学玻璃镜片镀膜前后，镀膜后清洗一般分开清洗，镀膜前因为没有膜，可以用强碱性清洗剂清洗，不会伤到玻璃镜片就ok；镀膜后的膜一般清洗剂，可能会伤到，，可以镀膜前，镀膜后清洗都可以

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迪史洁干冰雪喷射清洗在传统的光刻微芯片生产中也得到了证明。在芯片有限公司，它被用于生产各种应用的磁阻传感器。公司成立了公司2雪喷射技术在制造用于磁共振传感器的三维微芯片中作为传统湿化学清洗的有效且环保的替代物。这些通常需要用超纯介质进行昂贵的冲洗过程。二氧化碳干冰技术去除了金属化后在导电路径边缘形成的所谓栅栏。然后可以将下一个结构应用到硅晶片上。

CO2雪花清洗系统因为即使是小的流体介质残留物也会影响微电子元件的功能或保护涂层的粘附性，所以这些也需要可靠地去除。哥伦比亚2雪为清洁和提高保护涂层的附着力提供了一种经济、无残留的解决方案。同时，该工艺还能够选择性地处理特定部分，如粘合和接触区域。

迪史洁干冰雪喷射清洗在传统该工艺还为射频识别应用的微芯片封装提供了解决方案。组装前，半导体由夹具放在一个特殊的料盒中。在此过程中，机器人会产生足够的气流，这可能会导致将极轻的芯片从包装中取出。为了防止这种情况，芯片被从封装后部施加的真空压住。为此，钻一个小孔，并清除钻孔产生的残留物。哥伦比亚2雪喷射清洁擅长于这一特殊过程。

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压缩空气的空气动力带走分离的杂质，然后通过集成的抽吸单元将其抽出，以防止再次污染。因为一氧化碳2在大气压力下瞬间升华，在清洁过程结束时，部件变干，使它们能够被电离、或直接涂漆。干洗工艺的另一个优点是零件的设计自由度更大，因为流体可能被截留的几何形状不再是问题。

迪史洁干冰雪清洁技术是基于医疗雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半导体、牙科雪花清洗、原始设备制造、工业微电子雪花清洗、光纤、太阳能雪花清洗、珠宝和服装行业的精密清洗系统。

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璃和许多类型的光学器件已经过清洗。清洁的物体包括玻璃、未涂覆的基底、涂覆的玻璃、透镜、各种光学器件、金刚石车削光学器件、硅和锗光学器件、镜子，望远镜镜子，光栅(小心翼翼地)，钻石光学，一个数码相机。

CO2雪清洁可以清洁受污染的表面，去除加工油，去除硅酮脱模剂，清洁真空室的零件，清洁接触销表面，以及许多其他项目。它不能去除的或任何附着的氧化物。

表面科学家有时需要使用表面分析技术，在不改变基底材料的情况下去除无意或有意的污染。在这种情况下，处理、现场测试或仅仅大气暴露造成的残留污染会干扰分析。一般来说，试剂级的溶剂清洗可以去除大多数无意的污染，但也有溶剂清洗不充分的情况。在这些情况下，超声波溶剂清洗可能需要太长时间，或者可能无法去除或充分减少残留物。汽车和化工行业的一些用户就是这种情况，他们对探索测试零件的表面或现场故障感兴趣。二氧化碳雪清洁的用户可以在15秒钟内快速清洁这些部件，并清除足够的残留物，以便进行分析。清洗可能是溶剂作用和冷冻断裂的结合

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