电路板清洗二氧化碳清洗设备改善清洁工艺-微电子清洁干冰喷雾清洗设备迪史洁清洁技术

迪史洁（上海）清洗设备有限公司以诚信的经营方式、可靠规范的生产力和好的产品服务，使得我公司获得业界朋友的广泛认可。我们本着“细心发现、专心钻研、精心制造”的经营服务理念，为广大芯片行业提供可靠地二氧化碳雪花设备。产品在全国内深受广大合作客户的满意认可，我们会更加努力的为芯片行业提供质量更高、品种更全的二氧化碳雪花设备产品。

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CO2吹雪机是怎么工作的？

CO2吹雪装置与压缩空气和液态CO2相连。不需要电源。液体CO2可以通过单个钢瓶(容量高达37.5千克)或管束(容量450千克)供应，每个钢瓶都有汲取管，或者，对于固定用途，也可以通过储罐供应。在CO2吹雪机中，产生非常小的压缩干冰颗粒，作为喷射剂添加到压缩空气中，在高性能喷嘴的帮助下加速，并喷射到待清洁的表面上。喷射宽度高达125毫米的扁平喷嘴可用于清洁大面积表面。即使是敏感的表面也可以轻轻清洗。特殊的圆形喷嘴用于去除顽固的杂质。

CO2雪花清洗系统环境

不使用有毒化学品或溶剂。避免了高压清洗过程中产生的污染废水。随着二氧化碳雪粒在地表蒸发，只有极少量的废物产生并被处理掉。使用的CO2是一种循环产品，不需要专门为该过程生产。因此，该过程是环境友好的，不会造成温室效应。

CO2雪花清洗系统可用性

如果通过低压罐或单个钢瓶或管束提供供应，或者当使用微型罐时，可以在任何时候使用操作剂液体CO2。如果储存或运输发生变化，喷砂介质的质量不会波动。生产或交货的变化对供应也没有影响。液态CO2几乎在世界各地都有。它可以从不同容器中的气体供应商处获得，带有标准化的连接。

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迪史洁技术用于许多行业，如汽车油漆预处理、硬盘驱动器CO2清洗、医疗设备制造CO2清洗、航空航天和电子元件CO2清洗制造。我们的应用干燥。绿色。干净。迪史洁专注于CO2技术创新，以改善制造工艺，用于广泛的应用。工艺通常比传统的替代方法更节能。

这些优点意味着干法工艺被越来越多的用于生产微元件的清洁应用中。一个应用是在使用激光直接结构化技术(激光直接结构化)制造中间体时去除烧蚀残留物。这个过程使得电路布局能够直接在复杂的三维载体结构上产生。

CO2雪花清洗的优势是:扩展的设计机会，相当低的组件尺寸和重量，以及更快的电子组件变更:这导致开发和系列生产成本显著降低。激光还能产生比传统工艺更的结构。热塑性材料中的一种特殊添加剂专用于制造CO2雪花清洗。激光束引发物理化学反应来这种添加剂。然后，在此过程中，它在聚合物基质中分解，并在随后的还原镀铜中充当催化剂。在激光结构化过程中，活性烧蚀残留物(也是金属化的，因此会引起问题)会留在表面上。这些残留物用二氧化碳雪花清洗。与传统的清洗相比，例如使用超声波或高压水射流，该过程同时平整粗糙的激光结构。其结果是简化了干冰雪花清洗的结构和内部连接系统，例如引线键合、与未封装芯片的配合以及倒装芯片技术。此外，清洁模块可以很容易地直接集成到激光结构化系统中。更多CO2雪花技术咨询，产品和服务将陆续发布。

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为了清除残渣，绍尔有限公司|激光技术集成一氧化碳2三维激光系统中的雪喷射清洁模块。这些模块能够在持续数小时的激光处理过程中完成所需的清洁步骤。工件的加工是在除了转盘之外还装有X轴和Y轴的导向机器上进行的。在(大约。)10分钟清洗间隔，导向机器根据零件特定程序将工件定位在清洗头前面。这种集成的清洗工艺允许通过激光系统制造形状极其精细的零件，甚至高达90°的陡峭壁(某些材料的深度可达2毫米)。

在组件的激光写入过程中，例如数据矩阵代码，经常会留下烟迹。由于这种污染会导致读取设备对代码的识别不准确，因此使用二氧化碳雪是该过程成功的关键。更多CO2雪花技术咨询，产品和服务将陆续发布。

CO2雪花清洗系统另一个应用是工件的同时微沸腾和清洗，如齿轮、齿轮和泵部件以及医疗技术零件。去毛刺效果首先是基于雪晶对芯片的直接冲击所引发的机械效应。其次，毛刺被引起弯曲应力的湍流打破。这些过程发生在一瞬间。清洁和去毛刺在尽可能短的时间内完成，并获得可重复的结果。

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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雪花清洗讨论

如果沉积层与基底结合良好，镀膜光学器件将保持镀膜状态。这意味着，如果基底被适当清洁，几乎所有的薄膜沉积层都将保留下来。覆盖层也不会损坏。柯达在1998年的一项专利中表明，玻璃上的一层薄金层在CO2清洗后具有与清洗前相同的反射率。原子力显微镜详细的均方根分析表明，CO2清洗后整体平滑度较好。这一结果是预期的，因为CO2清洗将仅去除物理吸附的物种，而不是化学结合的物种。

一些玻璃是热敏性的，根据我们的经验，玻璃基板或覆盖层不会破裂。然而，也有例外。我们已经看到了磷酸钾、铌酸锂和其他一些玻璃(如NPK52)的问题。一般来说，如果一种材料因热冲击而名声不好，它可能不是一氧化碳的好材料2打扫卫生。然而，氟化镁薄膜完好无损，而块状氟化物样品会立即显示出损坏。

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面对未来新兴科技的挑战，望能与合作伙伴团结协作，共同进步。迪史洁干冰雪花清洗设备实施科技与人才战略，现已做好充足的准备，在未来的几年里预备投入较多资金继续引进清洗清理设备成熟的生产技术以及生产设备，继续招揽清洗清理设备行业经验丰富、技术过硬的人才。在原有基础上不断创新，注入具备创新思想的新鲜血液，让二氧化碳雪花设备能够融入潮流因素，更加符合市场的需求。

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