镀膜机厂家-精密光学镀膜设备供应商
所在地:广东省肇庆市
联系人:宋生
价格:面议
品牌:恒誉,,,,
发布时间:2024-09-01
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镀膜机厂家,精密光学镀膜设备供应商, 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司自2012-07-23成立以来,专注于为中小企业提供好的精密光学镀膜设备。公司及时跟进潮流动态,立足新起点,开创新局面。拥有成熟的生产加工设备以及可靠的包装生产流水线,新产品开发周期短、能力强,精度高,制造工艺成熟。欢迎广大中小企业前来合作。
优异的服务是客户的需求,而满足客户的需求是我们不变的宗旨。恒誉真空为了客户能够更快的接收到产品,我们出售的精密光学镀膜设备提供使用陆运;公路运输的方式来运送。创新是根本,质量是生命,务实是宗旨,效益是目标。我司坚持创新经营模式,勇于创新勇于尝试;坚持产品质量的追求,不懈进取,努力为客户提供质量过人的产品;我司坚持在务实诚信的基础上,努力实现企业效益的增长。
恒誉真空建立高起点、高目标、高质量、率、有效益的“五高”标准,锻造出质量良好的产品,获得广阔的销售市场。供应的精密光学镀膜设备主要用于镜片,镜头,饰品等表面镀膜,在广东区域范围内受到广大中小企业的青睐。公司凭借良好的信誉,雄厚的实力,好的产品,低廉的价格服务于广大用户。
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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,两极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体约束在靶面附近,增加碰撞几率,提高了离化效率,因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材利用率相对较高,但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,两极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。
旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。
主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
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