真空镀膜机|买实惠的双门光学镀膜设备，就选恒誉真空， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司开拓创新，不忘初心。自2012-07-23成立以来，一直专注于双门光学镀膜设备的经营销售，经过多年的发展，已在机械和行业设备专用配件行业领域开拓了庞大市场。公司的产品种类齐全，性能与设计都与时俱进，所供应的双门光学镀膜设备一直以可靠的品质和优良的售后服务面享誉业内。

恒誉真空奉行“以服务赢市场、以品质赢客户”的经营宗旨，努力为客户创造有价值的双门光学镀膜设备。公司健全质检系统，优化生产流程，努力为客户打造。本公司定位为亲近客户型企业，双门光学镀膜设备在镀膜用途方面应用良好，在市场营销、设计开发及公司运营过程中皆以需求群体需求为导向，满足并争取顾客的需求和期望。通过技术创新为顾客创造价值，为客户提供差异化的产品和服务。

真空镀膜机，

磁控溅射

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。

随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

磁控溅射种类

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。

恒誉真空在业内发展已有多年，从几年前的规模到如今的规模化经营,公司一直处在一个稳定而又成熟的发展阶段。公司的双门光学镀膜设备也一直深受用户的好评；以批发;零售;等方式在全国;广东、肇庆地区好销售；有效的物流在保证产品运输快捷的同时，还具有很高的安全性。产品质量好，性价比好，是广大需求群体信得过的好产品。

真空镀膜机|买实惠的双门光学镀膜设备，就选恒誉真空， 恒誉真空建设形象工程，提升企业公信力。本着顾客至上、质量为先的准则，通过多年不懈地努力积累了丰富的经验，在机械和行业设备专用配件行业中也取得了良好的口碑，为企业的发展打下了坚实的基础。我们相信，通过我们的不断努力和追求，能为广大需求群体带去的产品和贴心的服务，打造属于自己的优异形象。如果您对我公司的双门光学镀膜设备感兴趣，欢迎您能到我公司参观详谈，我们的地址在肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧。

如果您对我们的产品及服务有兴趣，想要进一步了解，光学镀膜机加工，真空镀膜机请联系我们