镀膜机厂家-价位合理的直流磁控濺射镀膜设备供应
所在地:广东省肇庆市
联系人:宋生
价格:面议
品牌:恒誉,,,,
发布时间:2025-04-03
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镀膜机厂家,价位合理的直流磁控濺射镀膜设备供应, 恒誉真空综合实力雄厚,技术水平高,售后服务完善。公司勤于市场发展需求,致力于打造直流磁控濺射镀膜设备生产、销售集成式服务,该产品用于通过磁控溅射的方法能在工件表面镀制各种金属,或其化合物膜层,以达到改变其光电磁性能或起到装饰性功效,因质量、生产工艺等方面言语,颇受中小企业欢迎,并且在全国;广东极为好销售,产品种类、型号等可根据客户要求供应。
肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司始建于2012-07-23,是一家机械和行业设备专用配件有限责任公司。公司主要生产直流磁控濺射镀膜设备,经过多年的长期发展和技术革新,现已发展成一家专门的公司。为了扩大本行业市场需求,现诚邀广大的新老客户前来咨询,与我司共同建有质量文化的质量体系,创造有魅力、有灵魂的产品。
恒誉真空技术力量雄量,制造设备精良,检验手段成熟,现已发展成为集设备研发、生产制造、销售服务于一体的高新技术企业。恒誉真空依靠高素质的员工,健全的工艺设备,完整的质量管理体系,产品售出后质保一年的售后服务,不断开拓创新,为广大中小企业提供可靠的直流磁控濺射镀膜设备。
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平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,两极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体约束在靶面附近,增加碰撞几率,提高了离化效率,因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材利用率相对较高,但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,两极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。
旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。
主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
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